申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)： 200510045678 物理氣相沉積領(lǐng)域中的黃銅件真空離子鍍替代電鍍方法，包括黃銅件、拋光、清洗、烘烤、爐體真空室、脈沖負(fù)偏壓、靶材，特征：在黃銅件［３］與真空室［９］之間，加有脈沖負(fù)偏壓，其占空比為１０－３０％，電壓為１００－２０００Ｖ，頻率為４０ＫＨｚ；替代電鍍鎳的離子鍍中間層，是在純金屬鈦及其合金或鋯及其合金上，還鍍有氮化鈦或氮化鋯，并在離子鍍的中間層與黃銅件之間有１－２μｍ的過(guò)渡層；工藝：拋光后經(jīng)超聲清洗、裝爐抽真空，烘烤、濺射清洗、離子鍍中間層，之后，或離子鍍制備成品，或經(jīng)離子鍍ＴｉＮ（或ＺｒＮ）后制備成品。優(yōu)點(diǎn)：①膜層中沒(méi)有Ｎｉ元素，無(wú)害；②沒(méi)有三廢無(wú)須治理；③鍍層附著性好，致密性好，耐蝕性強(qiáng)；④色澤好光亮不起朦，裝飾性好。
| 申請(qǐng)日： | 2005年01月15日 |
| 公開(kāi)日： | 2005年07月27日 |
| 授權(quán)公告日： | |
| 申請(qǐng)人/專利權(quán)人： | 大連理工大學(xué) |
| 申請(qǐng)人地址： | 遼寧省大連市甘井子區(qū)凌工路2號(hào) |
| 發(fā)明設(shè)計(jì)人： | 陳寶清;董闖;黃龍 |
| 專利代理機(jī)構(gòu)： | 大連星海專利事務(wù)所 |
| 代理人： | 修德金 |
| 專利類型： | 發(fā)明專利 |
| 分類號(hào)： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02 |
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